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18兆歐高純水設(shè)備處理工藝介紹
日期：2025-07-04 16:14
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摘要：
18兆歐高純水設(shè)備處理工藝介紹：通常應(yīng)用于電子、高新材料、集成電路、硅晶片、電子元件生產(chǎn)沖洗用水，一般由進(jìn)水預(yù)處理裝置、RO反滲透除鹽裝置、超純化處理裝置三部分組成。預(yù)處理的目的進(jìn)水符合RO進(jìn)水要求，主要指標(biāo)為：濁度、污染指數(shù)、氧化還原電位等；RO反滲透膜是主要的去離子工序，基本去除99%的離子雜質(zhì)；超純化后處理（EDI或離子交換）進(jìn)一步去除水中的微小離子，以滿(mǎn)足不同用途的*終水質(zhì)指標(biāo)要求。
主要去離子水工藝介紹：
RO反滲透純化系統(tǒng)
反滲透（Reverse Osmosis，簡(jiǎn)稱(chēng)RO）是以壓力差為推動(dòng)力的一種高新膜分離技術(shù)，具有一次分離度高、無(wú)相變、簡(jiǎn)單高效的特點(diǎn)。反滲透膜“孔徑”已小至納米（1nm=10-9m），在掃描電鏡下無(wú)法看到表面任何“過(guò)濾”小孔。在高于原水滲透壓的操作壓力下，水分子可反滲透通過(guò)RO半透膜，產(chǎn)出純水，而原水中的大量無(wú)機(jī)離子、有機(jī)物、膠體、微生物、熱原等被RO膜截留。
EDI連續(xù)除鹽裝置
連續(xù)電去離子EDI（Electrodeionization的縮寫(xiě)），是利用混床離子交換樹(shù)脂吸附給水中的陰陽(yáng)離子，同時(shí)這些被吸附的離子又在直流電壓的作用下分別透過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜而被連續(xù)去除的過(guò)程。這一新技術(shù)可以代替?zhèn)鹘y(tǒng)的離子交換（DI），產(chǎn)出15MΩ.cm以上的超純水。EDI深度除鹽的*大優(yōu)點(diǎn)是可長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行，無(wú)需用酸堿再生陰陽(yáng)樹(shù)脂，自動(dòng)化程度高、占地面積小、出水水質(zhì)高等特點(diǎn)。
拋光樹(shù)脂交換純化柱
拋光樹(shù)脂一般用于超純水處理系統(tǒng)末端，來(lái)保證系統(tǒng)出水水質(zhì)能夠維持用水標(biāo)準(zhǔn)，一般出水水質(zhì)都能達(dá)到18兆歐以上，并對(duì)TOC、SIO2都有一定的控制能力，拋光樹(shù)脂出廠的離子型態(tài)都是H、OH型，在拋光樹(shù)脂中被交換出來(lái)的H＋和OH－結(jié)合生成H2O，因此混床離子交換純化柱可用來(lái)深度去除純水中尚存的微量離子，其產(chǎn)水電阻率可達(dá)18.2MΩ.cm。
